某半导体芯片制造厂在晶圆加工过程中,使用硅烷进行硅外延生长,尾气洗涤塔产生高浓度含硅废水。废水具有pH波动大(2-11)、硅含量高的特点,传统处理方法易出现硅垢堵塞问题。
废水成分及来源
废水主要成分为:
溶解性硅酸盐
:SiO₂浓度达1000-1500mg/L
硫酸/氢氧化钠
:洗涤塔酸碱洗涤液残留
颗粒硅
:纳米级SiO₂胶体
痕量砷
:原料杂质带入
处理工艺流程
创新采用"两级中和+膜过滤+蒸发结晶"工艺:
一级中和
:用CaO调节pH至4-5,生成硅酸钙沉淀,硅去除率60%。
二级中和
:加Na₂CO₃将pH提升至9,进一步沉淀剩余硅,并联用镁剂除砷。
超滤系统
:0.02μm陶瓷膜过滤纳米级硅颗粒,通量稳定在80LMH。
MVR蒸发器
:浓缩高盐废水,结晶出Na₂SO₄副产品,水回用率超90%。
最终效果
总硅从1500mg/L降至5mg/L以下
砷含量从0.8mg/L降至0.01mg/L
系统无结垢运行超过2年
每年回收硫酸钠晶体约800吨
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