某电子元器件制造企业位于长三角地区,主要生产集成电路板、半导体元件等产品。在生产过程中,使用氢氟酸进行硅片清洗和蚀刻,产生大量含氟废水。由于当地环保要求严格,氟化物排放限值为8mg/L,企业急需建设专业处理设施。
废水成分及来源
废水主要来自三个环节:硅片酸洗工序(氟浓度120-150mg/L)、设备冲洗水(氟浓度80-100mg/L)以及车间地面清洗水(氟浓度30-50mg/L)。除氟化物外,废水中还含有微量重金属(铜、镍)、有机物(异丙醇)及酸碱物质,pH值波动在2-4之间。
处理工艺流程
采用"预处理+化学沉淀+深度净化"组合工艺:
调节池
:收集各车间废水,进行水质水量均衡,pH调节至6-
混凝沉淀
:投加氯化钙(CaCl₂)和聚合氯化铝(PAC),形成氟化钙沉淀
絮凝反应
:加入聚丙烯酰胺(PAM)增强絮体沉降性能
斜板沉淀池
:实现固液分离,上清液进入下一工序
活性炭吸附
:去除残留有机物和微量重金属
砂滤系统
:进一步截留悬浮物
pH回调
:确保出水pH在6-9范围内
最终效果
系统稳定运行后检测数据显示:氟化物浓度从进水均值110mg/L降至5.2mg/L,去除率达95.3%;COD从85mg/L降至20mg/L以下;重金属含量均低于排放标准。项目投资约280万元,吨水处理成本3.8元,完全满足《污水综合排放标准》(GB8978-1996)一级标准。
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