项目背景
上海某半导体厂生产过程中同时产生高硅废水(SiO₂ 500-800mg/L)和含氟废水(F⁻ 200-300mg/L)。两种废水混合后易形成氟硅酸胶体,传统化学沉淀法难以稳定达标。项目要求同步去除硅和氟(排放标准:SiO₂≤30mg/L,F⁻≤10mg/L)。
废水成分及来源
主要成分
:硅酸氢钠(NaHSiO₃)、氟化铵(NH₄F)、异丙醇
来源
:晶圆刻蚀废水、CMP研磨废水、设备冲洗水
处理工艺流程
协同沉淀阶段
:
两级反应池
:
第一级投加Ca(OH)₂生成CaF₂和CaSiO₃沉淀;
第二级投加PAC(聚合氯化铝)强化絮凝。
固液分离阶段
:
超滤系统
:采用0.02μm孔径膜组件截留胶体硅和微细沉淀物。
深度脱氟阶段
:
活性氧化铝吸附塔
:残余氟离子吸附去除。
最终效果
出水SiO₂≤25mg/L,F⁻≤8mg/L,远优于国家标准。
超滤系统通量稳定在15LMH,化学清洗周期延长至60天。
污泥经压滤后含水率<65%,可按一般固废处置。
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