高性能光电材料废水怎么处理｜高性能光电材料废水如何处理

该企业是国内领先的LED芯片制造商，生产过程中产生大量含重金属、有机溶剂及高浓度氨氮的废水。由于废水成分复杂且污染物浓度高，传统处理方法难以达标排放，企业急需一套高效、稳定的废水处理系统。

废水成分及来源

蚀刻废水

：含铜、镍等重金属离子，pH值波动大。

有机废水

：来自光刻胶清洗工序，含异丙醇、丙酮等有机溶剂，COD高达5000mg/L以上。

氨氮废水

：来自化学气相沉积（CVD）工艺，氨氮浓度超过800mg/L。

处理工艺流程

预处理阶段

调节池

：均衡水质水量，减少冲击负荷。

化学沉淀

：投加NaOH调节pH至9-10，使重金属形成氢氧化物沉淀，去除率>95%。

生化处理阶段

厌氧酸化

：分解大分子有机物，提高废水可生化性。

A/O工艺

（厌氧-好氧组合）：采用高效硝化-反硝化技术，氨氮去除率>98%。

深度处理阶段

活性炭吸附

：进一步去除残留有机物，确保COD<50mg/L。

膜过滤

（UF+RO）：实现废水回用，回用率>70%。

最终效果

出水水质达到《污水综合排放标准》（GB 8978-1996）一级标准。

重金属含量低于0.5mg/L，COD<50mg/L，氨氮<5mg/L。

每年减少废水排放量约20万吨，回用水用于生产线清洗工序，节省成本约150万元/年。