项目背景
某大型电子元器件生产企业主要生产印刷电路板(PCB),在蚀刻工序中产生大量含铜酸性废水。原有处理设施老化,无法满足日益严格的排放标准。新建处理系统要求实现废水回用率达到60%以上。
废水成分及来源
废水主要来自:
酸性蚀刻线(主要含Cu2+ 500-800mg/L)
微蚀工序(含H2SO4和H2O2)
显影去膜废水(含有机光阻剂)
特征污染物:
pH值0.5-2的强酸性废水
铜离子浓度高
微量有机污染物
处理工艺流程
分类收集
:
高浓度含铜废水单独收集
低浓度废水合并处理
铜回收系统
:
采用电解回收装置提取金属铜
回收铜纯度达99.5%以上
化学处理
:
两级中和(先石灰后NaOH)
硫化钠深度除铜
膜处理系统
:
超滤去除胶体和大分子有机物
反渗透实现脱盐和深度净化
回用与排放
:
60%产水回用于生产线
40%达标排放
最终效果
铜回收量达15kg/天,创造经济效益
出水铜离子浓度<0.3mg/L
回用水水质达到生产工艺要求
每年减少新鲜水用量约6万吨
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